Deposition of microcrystalline silicon–carbon films by PECVD

G. Ambrosone; U. Coscia; S. Lettieri; P. Maddalena; C. Minarini; S. Ferrero; A. Patelli; V. Rigato

作者G. Ambrosone; U. Coscia; S. Lettieri; P. Maddalena; C. Minarini; S. Ferrero; A. Patelli; V. Rigato
印刷ISSN0040-6090
文件大小255.76KB
发表时间2004
DOI10.1016/j.tsf.2003.11.023
页码274-279

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