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Reduction of resistivity in Cu thin films by partial oxidation: Microstructural mechanisms

Prater, Walter L.; Allen, Emily L.; Lee, Wen-Y.; Toney, Michael F.; Daniels, Jonathan; Hedstrom, Jonathan A.

期刊名称Applied Physics Letters
作者Prater, Walter L.; Allen, Emily L.; Lee, Wen-Y.; Toney, Michael F.; Daniels, Jonathan; Hedstrom, Jonathan A.
卷第84卷
期第14期
印刷ISSN0003-6951
文件大小392.16KB
发表时间2004
DOI10.1063/1.1691500