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Electrical activation in silicon-on-insulator after low energy boron implantation

Saavedra, Antonio F.; Jones, Kevin S.; Law, Mark E.; Chan, Kevin K.; Jones, Erin C.

期刊名称Journal of Applied Physics
作者Saavedra, Antonio F.; Jones, Kevin S.; Law, Mark E.; Chan, Kevin K.; Jones, Erin C.
卷第96卷
期第4期
印刷ISSN0021-8979
文件大小1105.22KB
发表时间2004
DOI10.1063/1.1769095