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Production of higher silanes in radio frequency SiH[sub 4] and H[sub 2]-SiH[sub 4] plasmas

Production of higher silanes in radio frequency SiH[sub 4] and H[sub 2]-SiH[sub 4] plasmas

Horvath, P.; Rozsa, K.; Gallagher, A.

期刊名称Journal of Applied Physics
作者Horvath, P.; Rozsa, K.; Gallagher, A.
卷第96卷
期第12期
印刷ISSN0021-8979
文件大小407.33KB
发表时间2004
DOI10.1063/1.1786666

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