发现好书期刊,享受阅读乐趣

海量图书期刊资源,随时随地畅享阅读乐趣

X-ray characterization of Si microstructures with high spatial resolution

X-ray characterization of Si microstructures with high spatial resolution

Cedola, A.
  • 期刊名称Journal of Applied Physics
  • 作者Cedola, A.
  • 卷第95卷
  • 期第4期
  • 印刷ISSN0021-8979
  • 文件大小336.90KB
  • 发表时间2004
  • DOI10.1063/1.1635652
← 返回【学霸图书馆】主页