发现好书期刊,享受阅读乐趣

海量图书期刊资源,随时随地畅享阅读乐趣

Optimum TiSi2Ohmic Contact Process for Sub-100 nm Devices

Optimum TiSi2Ohmic Contact Process for Sub-100 nm Devices

H. S. Park; J. M. Lee; S. W. Lee; J. H. Park; K. J. Moon; S. B. Kang; G. H. Choi; U. I. Chung; J. T. Moon
  • 作者H. S. Park; J. M. Lee; S. W. Lee; J. H. Park; K. J. Moon; S. B. Kang; G. H. Choi; U. I. Chung; J. T. Moon
  • 文件大小175.07KB
  • 发表时间2004
  • DOI10.1143/JJAP.43.1804
← 返回【学霸图书馆】主页