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Application of selective epitaxy for formation of ultra shallow SiGe-based junctions

J. Hållstedt; C. Isheden; M. Östling; R. Baubinas; J. Matukas; V. Palenskis; H.H. Radamson

作者J. Hållstedt; C. Isheden; M. Östling; R. Baubinas; J. Matukas; V. Palenskis; H.H. Radamson
印刷ISSN0921-5107
文件大小230.38KB
发表时间2004
DOI10.1016/j.mseb.2004.07.052
页码180-183