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Modeling of microwave discharges of H[sub 2] admixed with CH[sub 4] for diamond deposition

Modeling of microwave discharges of H[sub 2] admixed with CH[sub 4] for diamond deposition

Lombardi, G.; Hassouni, K.; Stancu, G.-D.; Mechold, L.; RoÌpcke, J.; Gicquel, A.

期刊名称Journal of Applied Physics
作者Lombardi, G.; Hassouni, K.; Stancu, G.-D.; Mechold, L.; RoÌpcke, J.; Gicquel, A.
卷第98卷
期第5期
印刷ISSN0021-8979
文件大小732.34KB
发表时间2005
DOI10.1063/1.2034646

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