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Characterization of SiCl[sub 4]/N[sub 2] Plasmas

Characterization of SiCl[sub 4]/N[sub 2] Plasmas

Agarwal, A. S.; Berry, V.; Alapati, R.; Nordheden, K. J.

期刊名称Journal of The Electrochemical Society
作者Agarwal, A. S.; Berry, V.; Alapati, R.; Nordheden, K. J.
卷第152卷
期第3期
印刷ISSN0013-4651
文件大小71.73KB
发表时间2005
DOI10.1149/1.1860513

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