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Simulation of silicon etching through a fluorocarbon layer

Simulation of silicon etching through a fluorocarbon layer

R. Knizikevičius

作者R. Knizikevičius
卷第79卷
印刷ISSN0042-207X
文件大小196.77KB
发表时间2005
DOI10.1016/j.vacuum.2005.02.003
页码119-123

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