Evaluation of Performance of Proximity Effect Correction in Electron Projection Lithography
M. Osawa; K. Ogino; H. Hoshino; Y. Machida; F. Koba; H. Yamashita; H. Arimoto
- 作者M. Osawa; K. Ogino; H. Hoshino; Y. Machida; F. Koba; H. Yamashita; H. Arimoto
- 文件大小210.47KB
- 发表时间2005
- DOI10.1143/JJAP.44.5535