A Novel Organosilicon Source for Low Temperature Plasma Deposition of Silicon Nitride-like Thin Films
- 作者Rosa Di Mundo; Riccardo d'Agostino; Francesco Fracassi; Fabio Palumbo
- 卷第2卷
- 期第8期
- 印刷ISSN1612-8850
- 电子ISSN1612-8869
- 文件大小243.85KB
- 发表时间2005
- DOI10.1002/ppap.200500035
- 页码612-617