SPIE Proceedings [SPIE Congress on Optics and Optoelectronics - Warsaw, Poland (Sunday 28 August 2005)] Lasers and Applications - Spectral and spatial measurements of a laser-produced plasma EUV source for 13.5 nm based on a double stream Xe/He gas puff target
Rakowski, R.; Abramski, Krzysztof M.; Lapucci, Antonio; Bartnik, A.; Fiedorowicz, H.; Plinski, Edward F.; Jarocki, R.; Kostecki, J.; Krzywiński, J.; Mikołajczyk, J.; Ryć, L.; Szczurek, M.; Wachulak, P.
- 作者Rakowski, R.; Abramski, Krzysztof M.; Lapucci, Antonio; Bartnik, A.; Fiedorowicz, H.; Plinski, Edward F.; Jarocki, R.; Kostecki, J.; Krzywiński, J.; Mikołajczyk, J.; Ryć, L.; Szczurek, M.; Wachulak, P.
- 卷第5958卷
- 印刷ISSN0277-786X
- 文件大小1031.50KB
- 发表时间2005
- DOI10.1117/12.622218