Effect of film thickness on the evolution of annealing texture in sputtered copper films

• 作者N. -J. Park; D. P. Field; M. M. Nowell; P. R. Besser
• 卷第34卷
• 期第12期
• 印刷ISSN0361-5235
• 电子ISSN1543-186X
• 文件大小1479.78KB
• 发表时间2005
• DOI10.1007/s11664-005-0157-7
• 页码1500-1508