Ion-induced interface layer formation in W/Si and WRe/Si multilayers
M.J.H. Kessels; J. Verhoeven; F.D. Tichelaar; F. Bijkerk
- 作者M.J.H. Kessels; J. Verhoeven; F.D. Tichelaar; F. Bijkerk
- 卷第582卷
- 印刷ISSN0039-6028
- 文件大小333.82KB
- 发表时间2005
- DOI10.1016/j.susc.2005.03.019
- 页码227-234