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Silicon etching in Cl2 environment

Silicon etching in Cl2 environment

R. Knizikevičius

作者R. Knizikevičius
卷第253卷
期第3期
印刷ISSN0169-4332
文件大小145.72KB
发表时间2006
DOI10.1016/j.apsusc.2006.02.040
页码1581-1583

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