发现好书期刊，享受阅读乐趣

海量图书期刊资源，随时随地畅享阅读乐趣

Characterization of thermally oxidized Ti∕SiO[sub 2] gate dielectric stacks on 4H–SiC substrate

R. Mahapatra; N. Poolamai; S. Chattopadhyay; N. G. Wright; A. K. Chakraborty; K. S. Coleman; P. G. Coleman; C. P. Burrows

作者R. Mahapatra; N. Poolamai; S. Chattopadhyay; N. G. Wright; A. K. Chakraborty; K. S. Coleman; P. G. Coleman; C. P. Burrows
文件大小461.21KB
发表时间2006
DOI10.1063/1.2173713