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Recrystallization behavior in chiral sculptured thin films from silicon

Schubert, E.; Fahlteich, J.; Rauschenbach, B.; Schubert, M.; Lorenz, M.; Grundmann, M.; Wagner, G.

期刊名称Journal of Applied Physics
作者Schubert, E.; Fahlteich, J.; Rauschenbach, B.; Schubert, M.; Lorenz, M.; Grundmann, M.; Wagner, G.
卷第100卷
期第1期
印刷ISSN0021-8979
文件大小436.22KB
发表时间2006
DOI10.1063/1.2207728