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Hydrogen plasma dry etching method for field emission application

Cheng, T. C.; Shieh, J.; Huang, W. J.; Yang, M. C.; Cheng, M. H.; Lin, H. M.; Chang, M. N.

期刊名称Applied Physics Letters
作者Cheng, T. C.; Shieh, J.; Huang, W. J.; Yang, M. C.; Cheng, M. H.; Lin, H. M.; Chang, M. N.
卷第88卷
期第26期
印刷ISSN0003-6951
文件大小395.77KB
发表时间2006
DOI10.1063/1.2218824