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Thermal stability of Ta–Si–N nanocomposite thin films at different nitrogen flow ratios

Thermal stability of Ta–Si–N nanocomposite thin films at different nitrogen flow ratios

C.K. Chung; T.S. Chen; C.C. Peng; B.H. Wu

作者C.K. Chung; T.S. Chen; C.C. Peng; B.H. Wu
卷第201卷
期第7期
印刷ISSN0257-8972
文件大小608.67KB
发表时间2006
DOI10.1016/j.surfcoat.2006.08.020
页码3947-3952

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