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Annealing effects on microstructure and properties of Ta–Al thin film resistors

Annealing effects on microstructure and properties of Ta–Al thin film resistors

C.K. Chung; Y.L. Chang; T.S. Chen; P.J. Su

作者C.K. Chung; Y.L. Chang; T.S. Chen; P.J. Su
卷第201卷
期第7期
印刷ISSN0257-8972
文件大小743.83KB
发表时间2006
DOI10.1016/j.surfcoat.2006.08.059
页码4195-4200

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