Fabrication of Cu/Co bilayer gate electrodes using selective chemical vapor deposition and soft lithographic patterning

H. J. Yang; J. Lee; S. Kim; Y. K. Ko; H. J. Shin; J. G. Lee; C. Kim; M. M. Sung; H. J. Bang; B. S. Cho; Y. H. Bae; J. H. Lee; D. H. Kim; C. O. Jeong; S. Y. Kim; S. K. Lim

作者H. J. Yang; J. Lee; S. Kim; Y. K. Ko; H. J. Shin; J. G. Lee; C. Kim; M. M. Sung; H. J. Bang; B. S. Cho; Y. H. Bae; J. H. Lee; D. H. Kim; C. O. Jeong; S. Y. Kim; S. K. Lim
文件大小762.38KB
发表时间2006
DOI10.1063/1.2396796

发现好书期刊，享受阅读乐趣

Fabrication of Cu/Co bilayer gate electrodes using selective chemical vapor deposition and soft lithographic patterning