Study of the Reliability Impact of Chlorine Precursor Residues in Thin Atomic-Layer-Deposited HfO2 Layers

• 作者Moonju Cho; Degraeve, R.; Pourtois, G.; Delabie, A.; Ragnarsson, L.-A.; Kauerauf, T.; Groeseneken, G.; De Gendt, S.; Heyns, M.; Cheol Seong Hwang
• 卷第54卷
• 期第4期
• 印刷ISSN0018-9383
• 电子ISSN1557-9646
• 文件大小410.33KB
• 发表时间2007
• DOI10.1109/ted.2007.892024
• 页码752-758