CoWBP capping barrier layer for sub 90 nm Cu interconnects
R. Ofek Almog; Y. Sverdlov; I. Goldfarb; Y. Shacham-Diamand
- 作者R. Ofek Almog; Y. Sverdlov; I. Goldfarb; Y. Shacham-Diamand
- 卷第84卷
- 期第11期
- 印刷ISSN0167-9317
- 文件大小725.71KB
- 发表时间2007
- DOI10.1016/j.mee.2007.05.031
- 页码2450-2454