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Stress migration phenomenon in narrow copper interconnects

Stress migration phenomenon in narrow copper interconnects

T. Suzuki; T. Nakamura; Y. Mizushima; T. Kouno; M. Shiozu; S. Otsuka; T. Hosoda; H. Matsuyama; K. Shono
  • 作者T. Suzuki; T. Nakamura; Y. Mizushima; T. Kouno; M. Shiozu; S. Otsuka; T. Hosoda; H. Matsuyama; K. Shono
  • 文件大小703.48KB
  • 发表时间2007
  • DOI10.1063/1.2430695
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