Hollow laser self-confined plasma for extreme ultraviolet lithography and other applications

• 期刊名称Laser and Particle Beams
• 作者SIZYUK, V.; HASSANEIN, A.; SIZYUK, T.
• 卷第25卷
• 期第1期
• 印刷ISSN0263-0346
• 电子ISSN1469-803X
• 文件大小343.68KB
• 发表时间2007-3
• DOI10.1017/s026303460707019x