Deposition of sacrificial silicon oxide layers by electron cyclotron resonance plasma

C. Biasotto; A. M. Daltrini; R. C. Teixeira; F. A. Boscoli; J. A. Diniz; S. A. Moshkalev; I. Doi

作者C. Biasotto; A. M. Daltrini; R. C. Teixeira; F. A. Boscoli; J. A. Diniz; S. A. Moshkalev; I. Doi
文件大小664.31KB
发表时间2007
DOI10.1116/1.2746331

发现好书期刊，享受阅读乐趣