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Epitaxial anatase HfO2 on high-mobility substrate for ultra-scaled CMOS devices

Epitaxial anatase HfO2 on high-mobility substrate for ultra-scaled CMOS devices

A. Debernardi; C. Wiemer; M. Fanciulli

作者A. Debernardi; C. Wiemer; M. Fanciulli
卷第11卷
印刷ISSN1369-8001
文件大小379.51KB
发表时间2008
DOI10.1016/j.mssp.2008.07.011
页码241-244

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