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Formation process of Al2O3 thin film by reactive sputtering

Formation process of Al2O3 thin film by reactive sputtering

Y. Chiba; Y. Abe; M. Kawamura; K. Sasaki

作者Y. Chiba; Y. Abe; M. Kawamura; K. Sasaki
卷第83卷
期第3期
印刷ISSN0042-207X
文件大小217.33KB
发表时间2008
DOI10.1016/j.vacuum.2008.04.012
页码483-485

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