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Stress and Crystallization of Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition Nanocrystalline Silicon Films

Stress and Crystallization of Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition Nanocrystalline Silicon Films

Milne, S. B.; Fu, Y. Q.; Luo, J. K.; Flewitt, A. J.; Pisana, S.; Fasoli, A.; Milne, W. I.
  • 期刊名称Journal of Nanoscience and Nanotechnology
  • 作者Milne, S. B.; Fu, Y. Q.; Luo, J. K.; Flewitt, A. J.; Pisana, S.; Fasoli, A.; Milne, W. I.
  • 卷第8卷
  • 期第5期
  • 印刷ISSN1533-4880
  • 文件大小1032.92KB
  • 发表时间2008-05-01
  • DOI10.1166/jnn.2008.629
  • 页码2693-2698
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