Spectroscopic ellipsometry study of thin diffusion barriers of TaN and Ta for Cu interconnects in integrated circuits
S. Rudra; T. Wächtler; M. Friedrich; S. J. Louis; C. Himcinschi; S. Zimmermann; S. E. Schulz; S. Silaghi; C. Cobet; N. Esser; T. Gessner; D. R. T. Zahn
- 作者S. Rudra; T. Wächtler; M. Friedrich; S. J. Louis; C. Himcinschi; S. Zimmermann; S. E. Schulz; S. Silaghi; C. Cobet; N. Esser; T. Gessner; D. R. T. Zahn
- 卷第205卷
- 期第4期
- 印刷ISSN1862-6319
- 文件大小439.22KB
- 发表时间2008
- DOI10.1002/pssa.200777831
- 页码922-926