Application of Low Accelerating Voltage Aberration Corrected Dedicated STEM With Cold FEG.

• 期刊名称Microscopy and Microanalysis
• 作者Konno, M; Suzuki, Y; Nakamura, K; Inada, H
• 卷第15卷
• 印刷ISSN1431-9276
• 电子ISSN1435-8115
• 文件大小447.62KB
• 发表时间2009-7
• DOI10.1017/s1431927609093180
• 页码4-5