Advanced step and flash nanoimprint lithography using UV-sensitive hard mask underlayer material
- 作者Takei, S.; Ogawa, T.; Deschner, R.; Hanabata, M.; Willson, C.G.
- 卷第5卷
- 期第2期
- 印刷ISSN1750-0443
- 文件大小288.07KB
- 发表时间2010
- DOI10.1049/mnl.2010.0014
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