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Activation behavior of boron implanted poly-Si on glass substrate

Activation behavior of boron implanted poly-Si on glass substrate

M. Furuta; K. Shimamura; H. Tsubokawa; K. Tokushige; H. Furuta; T. Hirao

作者M. Furuta; K. Shimamura; H. Tsubokawa; K. Tokushige; H. Furuta; T. Hirao
卷第518卷
期第15期
印刷ISSN0040-6090
文件大小960.69KB
发表时间2010
DOI10.1016/j.tsf.2010.02.060
页码4477-4481

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