Plasma Process. Polym. 2/2010
J. Alan Rees; David L. Seymour; Claire-Louise Greenwood; Yolanda Aranda Gonzalvo; David T. Lundie
- 作者J. Alan Rees; David L. Seymour; Claire-Louise Greenwood; Yolanda Aranda Gonzalvo; David T. Lundie
- 卷第7卷
- 期第2期
- 印刷ISSN1612-8850
- 电子ISSN1612-8869
- 文件大小207.90KB
- 发表时间2010
- DOI10.1002/ppap.201090005