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Characterizing the impact of process variation on 45 nm NoC-based CMPs

Characterizing the impact of process variation on 45 nm NoC-based CMPs

C. Hernández; A. Roca; J. Flich; F. Silla; J. Duato
  • 作者C. Hernández; A. Roca; J. Flich; F. Silla; J. Duato
  • 卷第71卷
  • 期第5期
  • 印刷ISSN0743-7315
  • 电子ISSN1096-0848
  • 文件大小1138.90KB
  • 发表时间2011
  • DOI10.1016/j.jpdc.2010.09.006
  • 页码651-663
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