HF contamination of 200 mm Al wafers: A parallel angle resolved XPS study
B. Pelissier; H. Fontaine; A. Beaurain; A. Danel; O. Joubert
- 作者B. Pelissier; H. Fontaine; A. Beaurain; A. Danel; O. Joubert
- 卷第88卷
- 期第6期
- 印刷ISSN0167-9317
- 文件大小480.51KB
- 发表时间2011
- DOI10.1016/j.mee.2010.11.004
- 页码861-866