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HF contamination of 200 mm Al wafers: A parallel angle resolved XPS study

HF contamination of 200 mm Al wafers: A parallel angle resolved XPS study

B. Pelissier; H. Fontaine; A. Beaurain; A. Danel; O. Joubert
  • 作者B. Pelissier; H. Fontaine; A. Beaurain; A. Danel; O. Joubert
  • 卷第88卷
  • 期第6期
  • 印刷ISSN0167-9317
  • 文件大小480.51KB
  • 发表时间2011
  • DOI10.1016/j.mee.2010.11.004
  • 页码861-866
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