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Selective area epitaxy of ultra-high density InGaN quantum dots by diblock copolymer lithography

Guangyu Liu; Hongping Zhao; Jing Zhang; Joo Hyung Park; Luke J Mawst; Nelson Tansu

作者Guangyu Liu; Hongping Zhao; Jing Zhang; Joo Hyung Park; Luke J Mawst; Nelson Tansu
卷第6卷
期第1期
印刷ISSN1931-7573
电子ISSN1556-276X
文件大小1774.45KB
发表时间2011-12
DOI10.1186/1556-276x-6-342