Cleaning Process Applicable to Silicon Carbide Chemical Vapor Deposition Reactor

• 期刊名称ECS Journal of Solid State Science and Technology
• 作者Habuka, H.; Fukumoto, Y.; Mizuno, K.; Ishida, Y.; Ohno, T.
• 卷第3卷
• 期第1期
• 印刷ISSN2162-8769
• 电子ISSN2162-8777
• 文件大小1175.06KB
• 发表时间2013-10-16
• DOI10.1149/2.002401jss