Athermal silicon optical interposers with quantum dot lasers operating from 25 to 125°C

Hatori, N.; Hirayama, N.; Noguchi, M.; Saitou, S.; Imai, M.; Takahashi, H.; Yaegashi, H.; Mori, M.; Akiyama, S.; Saito, E.; Arakawa, Y.; Miura, M.; Yamada, K.; Shimizu, T.; Okano, M.; Urino, Y.; Noguchi, Y.; Okamoto, D.; Nakamura, T.; Yamagishi, M.; Takahashi, M.; Usuki, T.; Fukuda, H.; Nishi, H.; Shimura, D.; Akagawa, T.; Baba, T.; Horikawa, T.; Fujikata, J.; Okayama, H.; Ishizaka, M.; Onawa, Y.; Yamamoto, T.

期刊名称Electronics Letters
作者Hatori, N.; Hirayama, N.; Noguchi, M.; Saitou, S.; Imai, M.; Takahashi, H.; Yaegashi, H.; Mori, M.; Akiyama, S.; Saito, E.; Arakawa, Y.; Miura, M.; Yamada, K.; Shimizu, T.; Okano, M.; Urino, Y.; Noguchi, Y.; Okamoto, D.; Nakamura, T.; Yamagishi, M.; Takahashi, M.; Usuki, T.; Fukuda, H.; Nishi, H.; Shimura, D.; Akagawa, T.; Baba, T.; Horikawa, T.; Fujikata, J.; Okayama, H.; Ishizaka, M.; Onawa, Y.; Yamamoto, T.
卷第50卷
期第19期
印刷ISSN0013-5194
电子ISSN1350-911X
文件大小549.88KB
发表时间2014-09-11
DOI10.1049/el.2014.2135
页码1377-1378

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Athermal silicon optical interposers with quantum dot lasers operating from 25 to 125°C