Effect of the RF wall conditioning on the high performance plasmas in the Large Helical Device

Takahashi, H.; Osakabe, M.; Nagaoka, K.; Nakano, H.; Tokitani, M.; Fujii, K.; Murakami, S.; Takeiri, Y.; Seki, T.; Saito, K.; Kasahara, H.; Seki, R.; Kamio, S.; Masuzaki, S.; Mutoh, T.

期刊名称Journal of Nuclear Materials
作者Takahashi, H.; Osakabe, M.; Nagaoka, K.; Nakano, H.; Tokitani, M.; Fujii, K.; Murakami, S.; Takeiri, Y.; Seki, T.; Saito, K.; Kasahara, H.; Seki, R.; Kamio, S.; Masuzaki, S.; Mutoh, T.
卷第463卷
印刷ISSN0022-3115
文件大小621.34KB
发表时间2015-08
DOI10.1016/j.jnucmat.2014.11.131
页码1100-1103

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Effect of the RF wall conditioning on the high performance plasmas in the Large Helical Device