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175  nm period grating fabricated by i-line proximity mask-aligner lithography

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Bourgin, Yannick; Voigt, Daniel; Käsebier, Thomas; Siefke, Thomas; Kley, Ernst-Bernhard; Zeitner, Uwe D.
  • 期刊名称Optics Letters
  • 作者Bourgin, Yannick; Voigt, Daniel; Käsebier, Thomas; Siefke, Thomas; Kley, Ernst-Bernhard; Zeitner, Uwe D.
  • 卷第42卷
  • 期第19期
  • 印刷ISSN0146-9592
  • 电子ISSN1539-4794
  • 文件大小1528.45KB
  • 发表时间2017-10-01
  • DOI10.1364/ol.42.003816
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