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Interface reaction kinetics in SiGe oxidation

Interface reaction kinetics in SiGe oxidation

Li, Xiuyan; Noma, Yusuke; Song, Woojin; Nishimura, Tomonori; Toriumi, Akira
  • 期刊名称Applied Physics Letters
  • 作者Li, Xiuyan; Noma, Yusuke; Song, Woojin; Nishimura, Tomonori; Toriumi, Akira
  • 卷第115卷
  • 期第23期
  • 印刷ISSN0003-6951
  • 电子ISSN1077-3118
  • 文件大小2368.34KB
  • 发表时间2019-12-02
  • DOI10.1063/1.5109746
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