SERS application to some electroorganic reactions
- 作者Machiko Takahashi; Masato Fujita; Masatoki Ito
- 卷第158卷
- 印刷ISSN0167-2584
- 文件大小47.45KB
- 发表时间1985
- DOI10.1016/0167-2584(85)90023-4
Backscattering contribution to Auger line intensityL. Meda; G. Queirolo · 1984
The backscattering contribution to auger line intensityL. Meda; G. Queirolo · 1986
Impurities and defects in silicon single crystalL. Meda; G.F. Cerofolini; G. Queirolo · 1987
Current effects in BF2 implants in siliconG. Queirolo; P. Caprara; L. Meda; G. Ottaviani; M. Anderle; D. Bassi · 1987
Thermodynamic and kinetic properties of arsenic-implanted siliconG.F. Cerofolini; P. Manini; L. Meda; M.L. Polignano; G. Queirolo; F. Nava; G. Ottaviani; M. Gallorini · 1986
On the silicon dioxide/polycrystalline silicon interface width measurementG. Queirolo; S. Manzini; L. Meda; M. Anderle; R. Canteri; A. Armigliato; S. Frabboni · 1988
Damage recovery and dopant activation phenomena in heavily arsenic-implanted siliconG.F. Cerofolini; P. Manini; L. Meda; G.U. Pignatel; G. Queirolo; A. Garulli; E. Landi; S. Solmi; F. Nava; G. Ottaviani; M. Gallorini · 1985